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提高半導體等離子去膠機去膠效率的方法

在半導體制造過程中,光刻膠的去除是關鍵步驟之一。等離子去膠技術因其高效、環(huán)保和精確性被廣泛應用于這一過程。然而為了進一步提升生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量,優(yōu)化半導體等離子去膠機的去膠效率顯得尤為重要。1、優(yōu)化工藝參數(shù)等離子去膠的效率與多種工藝參數(shù)密切相關,包括射頻功率、反應室壓力、氣體流量和類型、處理時間等。通過實驗優(yōu)化這些參數(shù),可以找到適合特定光刻膠材料的去膠條件。例如:(1)射頻功率:適當增加射頻功率可以提高等離子體密度,從而增強去膠效果。但過高的功率可能導致材料損傷或過度刻蝕。(...

  • 2023

    3-23

    隨著工業(yè)生產(chǎn)的不斷發(fā)展和人們對產(chǎn)品品質(zhì)的要求越來越高,表面處理技術逐漸成為各行業(yè)的重要環(huán)節(jié)。而寬幅等離子清洗機作為表面處理中的一種高效、環(huán)保的設備,得到了廣泛的應用。一、原理及特點寬幅等離子清洗機是利用等離子體在高頻電場作用下產(chǎn)生活性氧、氮等化學物質(zhì),從而實現(xiàn)表面去污、除膜、改善附著力等效果的設備。其主要特點如下:1、高效:采用高頻電場產(chǎn)生的等離子體,能夠快速去除表面的油污、氧化層、膠粘物等雜質(zhì),提高表面質(zhì)量。2、環(huán)保:采用等離子體清洗技術,無需使用有機溶劑、酸堿等化學藥劑,...

  • 2023

    3-2

    廣泛應用于電子、平板電腦、手機、家電、汽車、鋼等行業(yè)的寬幅等離子清洗機是一種新興技術,它能夠更好地消除物料表面上的灰塵、污漬、油脂和污物,保持物料表面平整、光滑、干凈。結合了高壓等離子技術和傳統(tǒng)的蒸汽除銹技術,在實現(xiàn)高效地清潔表面的同時,能夠很好地保護物料表面,從而提高物料表面的加工質(zhì)量和維護壽命。寬幅等離子清洗機具有清潔效果好、操作安全、成本低、占地面積小等優(yōu)點,可以有效消除到表面銹垢、油脂、污物等,保持產(chǎn)品表面光滑,避免表面結節(jié)、氧化和炬腐等現(xiàn)象的發(fā)生,從而改善產(chǎn)品的外觀...

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